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기존에는 형석을 가지고 증류법, 전기 분해법, 흡착법, 막분리법 등 여러 정제 공정을 통했다. 이번에 개발한 생산방식은 이같은 전처리 공정이 생략된다.
램테크놀러지는 반도체용 불산 제품의 단일 금속 불순물의 농도를 1ppt 이하로 만드는 목표를 잡고 있다.
2024년 07월 03일 수요일
기존에는 형석을 가지고 증류법, 전기 분해법, 흡착법, 막분리법 등 여러 정제 공정을 통했다. 이번에 개발한 생산방식은 이같은 전처리 공정이 생략된다.
램테크놀러지는 반도체용 불산 제품의 단일 금속 불순물의 농도를 1ppt 이하로 만드는 목표를 잡고 있다.
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