[특징주]에프에스티, 삼성 초격차 전략 EUV 7나노…국내 유일 펠리클 수혜 ↑

[이데일리 박형수 기자] 삼성전자가 첨단 EUV(극자외선) 인프라를 구축해 위탁생산(파운드리) 사업이 차세대 성장동력으로 자리잡도록 노력하겠다고 밝힌 가운데 펠리클 전문 업체 에프에스티(036810)가 강세다. 에프에스티는 EUV 펠리클을 개발하고 있다.

31일 오후 1시47분 에프에스티는 전날보다 6.23% 오른 4350원에 거래되고 있다.

삼성전자는 메모리 반도체의 슈퍼 사이클(장기 호황)에 힘입어 3분기에 영업이익 14조5300억원을 벌어들였다. 반도체 부문 영업이익만 9조9600억원에 달해 반도체 한 품목만으로 10조원 가까운 수익을 냈다. 여의도 증권가는 삼성전자가 올해 영업이익 55조원을 달성할 것으로 내다봤다.

삼성전자는 이날 컨퍼런스 콜을 열고 내년에도 낸드와 D램에서 고성능·고용량화가 이어질 것으로 보고 평택 단지를 중심으로 V낸드 공급 확대와 5세대 V낸드의 적기 개발과 양산에 주력하겠다고 밝혔다. D램에서는 10나노급 선단공정 전환 확대와 고용량 차별화 제품을 통해 사업 경쟁력과 시장 리더십을 강화한다는 전략이다. 파운드리에서도 첨단 EUV(극자외선) 인프라를 구축해 파운드리 사업이 차세대 성장동력으로 삼을 계획이다. EUV 노광(露光)장비를 적용한 7나노 이하 공정 개발에 집중한다.

삼성전자는 EUV 노광을 위한 마스크 검사, 그리고 마스크 보호를 위한 펠리클(Pellicle) 핵심설계를 마무리한 것으로 알려졌다. 내년 초도 생산에 들어가는 7나노 시스템반도체 파운드리에 적용할 것으로 보인다. 시설투자를 대폭 늘려 반도체와 디스플레이 부문에서 2위와의 ‘초격차’를 유지하겠다는 삼성 특유의 경영전략으로 풀이된다.

EUV는 반도체 회로를 그리는 포토 리소그래피(노광)에 사용하는 ‘레이저’로 13.5nm의 짧은 파장을 가지고 있다. 현재 사용하는 방식보다 파장이 짧기 때문에 오밀조밀하게 회로를 그릴 수 있다. 마스크 보호를 위한 펠리클도 개발하고 있다. EUV 노광 장비를 개발할 때 처음에는 펠리클에 대한 개념이 없었으나 마스크에서 계속 결함이 발생하다보니 필수적으로 도입이 이뤄졌다.

권휼 동부증권 연구원은 “에프에스티는 국내 유일의 펠리클 제조업체”라며 “국내 점유율과 고부가 제품 판매 확대로 인한 펠리클 매출 성장을 기대한다”고 설명했다.

이어 “현재 개발중인 EUV 공정용 펠리클 생산 가능 시점에 따라 높은 성장 잠재력을 보유하고 있다”며 “칠러 장비 사업은 고객사의 신규 3D 낸드와 유기발광다이오드(OLED) 투자로 추가적인 수혜가 가능하다”고 덧붙였다.