[이데일리 이정현 기자] 반도체 습도제어 솔루션 전문기업
저스템(417840)은 습도를 1% 수준으로 제어할 수 있는 신제품 ‘JFS U1’을 개발했다고 6일 밝혔다.
저스템에 따르면 신제품 ‘JFS U1’은 기존의 EFEM에 장착하여 25매 전 슬롯이 습도를 1% 수준으로 제어한다. 그간 회사는 JFS U5 양산 평가에서 습득한 노하우 및 저스템 특허인 ‘Laminar Flow’ 기술과, 새로운 특허 기술을 적용해 세계 최고 수준의 기술 성능을 구현했다. 또한 ‘JFS U1’은 외부 기관으로부터 검증을 받았다.
‘JFS U1’은 내년 초부터 양산 라인 평가에 들어가 내년 말부터 1% 습도관리가 필요한 중요 공정에 적용될 것으로 예상된다.
저스템 관계자는 “현재 반도체 산업전반의 CAPEX 축소와 감산 소식으로 투자 심리가 얼어붙은 가운데, 저스템의 JFS U1 제품이 FOUP 내 습도를 최소화하고 수율을 향상시킬 수 있는 반도체 오염제어 시스템의 새로운 모멘텀이 될 수 있을 것으로 예상된다”고 전했다.
한편 저스템의 ‘JFS U5’(Under 5%) 제품은 글로벌 업체의 대만 팹(Fab) 성능평가를 거쳐, 웨이퍼 25매 전체 위치 습도 3.5% 수준의 평가를 받았다. 현재 신뢰성 평가를 진행 중이며 일본 팹(Fab), 싱가폴 팹(Fab)의 장비에서 추가적인 평가를 진행 중이다.
‘JFS U5’는 중소기업 혁신과제로 개발이 진행됐으며, 담당 연구원은 지난 11월 ‘대한민국 엔지니어 대상’을 수상한 바 있다. 내년부터 양산 장비에 적용될 예정이다.