"파운드리1위 臺TSMC 넘는다"..삼성, EUV기반 최첨단 5나노 공정 개발

삼성전자가 5나노 공정 개발에 성공한 화성캠퍼스 EUV 라인 전경. (사진=삼성전자)

[이데일리 양희동 기자] 삼성전자(005930)가 EUV(극자외선) 기술을 기반으로 ‘5나노(nm·10억분의 1m) 공정’ 개발에 성공했다고 16일 밝혔다. 삼성전자는 이달 안에 7나노 제품을 출하하고 올해 내 양산을 목표로 6나노 제품 설계를 완료하는 등 초미세 공정에서 ‘초(超)격차’ 전략을 강화하고 있다. 초미세 공정 포트폴리오 확대를 통해 파운드리(반도체 수탁 생산) 기술 리더십과 4차 산업혁명을 이끌 시스템 반도체 사업 경쟁력을 키운다는 구상이다. 또 첨단 공정 역량 강화가 국내 반도체 생태계 발전과 시스템 반도체 산업 육성에도 큰 역할을 할 것으로 기대하고 있다.

삼성전자가 이번에 개발한 차세대 5나노 공정은 셀 설계 최적화를 통해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있다. 또 20% 향상된 전력 효율 또는 10% 향상된 성능을 제공한다. 특히 7나노 공정에 적용된 설계 자산(IP·Intellectual Property)을 활용할 수 있어 기존 7나노 공정을 사용하는 고객은 5나노 공정의 설계 비용을 줄일 수 있다.

삼성전자는 7나노 및 6나노 파운드리 공정도 양산을 본격화하고 있다. 올 초 업계 최초로 EUV공정을 적용한 7나노 제품 양산을 시작했고 이달 중에 본격 출하할 계획이다. 6나노 공정 기반 제품에 대해서는 대형 고객과 생산 협의를 진행하고 있으며 제품 설계가 완료(Tape-Out)돼 올 하반기 양산할 예정이다.

이번 초미세 공정의 기반이 된 EUV(극자외선) 기술은 기존 불화아르곤(ArF)보다 파장의 길이가 짧은 EUV 광원을 사용해, 보다 세밀한 반도체 회로를 구현할 수 있는 것이 특징이다. 회로를 새기는 작업을 반복하는 멀티 패터닝(Multi-Patterning) 공정을 줄여 성능과 수율(양품 비율)을 높일 수 있다.

삼성전자가 첨단 초미세 공정 파운드리 생산의 핵심 기술을 확보하면서 국내 시스템 반도체 생태계가 강화되고, 시스템 반도체 역량도 높아지는 효과도 기대된다. 파운드리 사업은 △반도체 장비 △소재 △디자인 △패키징 △테스트 등 다양한 전문 업체들이 함께 성장하기 때문에 전·후방 연관 효과가 크다.

삼성전자는 1장의 웨이퍼에 여러 종류의 반도체 제품을 생산하는 ‘MPW(Multi Project Wafer) 서비스’를 최첨단 5나노 공정까지 확대 제공해 고객들이 보다 편리하게 최첨단 반도체를 제작할 수 있도록 지원한다. 또 삼성전자 파운드리 지원 프로그램인 ‘SAFE TM’를 통해 설계 자산(IP) 외에도 공정 설계 키트(PDK), 설계 방법론(DM), 자동화 설계 툴(EDA) 등 5나노 공정 기반 제품 설계를 돕는 디자인 인프라를 제공한다. 팹리스(반도체 설계회사) 고객들은 이를 활용해 보다 쉽고 빠르게 제품을 설계할 수 있고 신제품 출시 시기도 앞당길 수 있다.

삼성전자는 이런 서비스 및 생산기술이 국내 팹리스 업체들이 글로벌 시장에서 경쟁할 수 있는 시스템 반도체를 내놓는 데 도움을 줄 것으로 보고 있다.

배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀 부사장은 “삼성전자의 EUV 기반 최첨단 공정은 성능과 IP 등에서 다양한 강점을 가지고 있어 5G(5세대 이동통신), AI(인공지능), 전장(전자 장비) 등 신규 응용처를 중심으로 높은 수요가 예상된다”라며 “향후에도 첨단 공정 솔루션으로 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나가겠다”고 말했다.

한편 삼성전자는 최신 파운드리 생산시설인 화성캠퍼스 S3 라인에서 EUV 기반 최첨단 공정 제품을 생산하고 있다. 현재 건설 중인 화성캠퍼스 EUV 전용 라인을 내년부터 본격 가동할 계획이다.