“삼성 팹 복제 등 기술유출 심각”…정부 개정안 두고 업계 반응은

[이데일리 최영지 기자] 최근 반도체와 디스플레이 등 주요 산업기술이 해외로 유출되는 시도가 속출하는 가운데 정부가 유출 행위에 대한 처벌을 강화하는 내용을 골자로 하는 법안을 내놨다. 향후 대법원 양형위원회의 기술유출 범죄 등 지식재산권범죄 양형기준 수정을 통해 해당법 양형기준이 강화돼야 한다는 목소리도 나오는 반면 학자들의 연구를 위해 기술유출 범위를 지나치게 좁게 해석하는 것은 지양해야 한다는 의견도 제기됐다.

삼성전자 반도체공장 설계자료 유출사건 관련 공소사실 일부(자료=수원지검)

18일 업계에 따르면 산업통상자원부는 지난달 말 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률(산업기술보호법) 일부개정안을 입법예고했다. 다음달 7일까지 의견수렴 등 입법예고 기간을 거쳐 올해 안에 국회에 제출할 계획이다.

산업부는 입법예고문을 통해 “현행법은 국가핵심기술 및 산업기술을 외국에서 사용하거나 사용되게 할 목적으로 유출하는 등의 행위에 대해 처벌하고 있으나 목적 입증의 어려움으로 기술유출 대응을 약화시키고 있다는 지적이 제기되고 있다”며 “이와 함께 기술유출을 소개·알선·유인하는 경우도 처벌해 기술유출을 목적으로 한 이직알선을 예방할 필요성이 제기되고 있다”고 설명했다.

업계에 따르면 산업부는 그간 업계 및 학계 의견을 청취했고 이를 개정안에 반영한 것으로 알려졌다. 최근 들어 반도체 및 디스플레이 등 우리나라 주요 산업기술 유출 사례가 잇따르는 데 다 유출 정도가 심해짐에 따라 향후 제재를 위해 손을 본 것으로 풀이된다.

최근에도 삼성전자(005930) 반도체 공장을 통째로 복제한 반도체 공장을 중국에 설립하려 한 혐의(산업기술보호법 위반 등)로 전 삼성전자 상무 A씨가 기소됐으며 삼성디스플레이의 엣지 패널 핵심기술을 중국 기업에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 톱텍 임직원들이 대법원에서 유죄를 확정받았다.

개정안 주요내용을 보면 △법으로 금지하는 침해행위의 범위 확대 △해외유출 범죄구성요건 상향 조정 등이 있다. 국가핵심기술을 지정된 장소 밖으로 무단유출하거나 기술유출을 소개·알선·유도한 행위도 침해행위에 포함되도록 법조항을 규정하고 국가핵심기술 및 산업기술의 해외유출 범죄구성요건을 목적범에서 고의범으로 변경함으로써 외국에서 사용하거나 사용될 것을 알면서 유출하는 경우 처벌대상이 되도록 규정하는 것이다.

한편 대법원 양형위원회는 지식재산권범죄 양형기준 수정에 착수했다. 해당 범죄에 포함되는 기술유출 범죄의 양형 기준이 개선된다면 관련 범죄 처벌 수위도 높아지고 우리나라 경제 안보에 악영향을 미칠 수 있는 범행을 예방할 수 있을 것으로 보인다. 현행법상 국가핵심기술의 해외 유출 시 3년 이상의 징역과 15억원 이하의 벌금을 병과한다.

산업부도 지난 4월 산업기술 유출 범죄 양형 기준을 강화해달라는 내용의 의견서를 대법원 양형위에 전달했다. 최근 전국경제인연합회 등 경제단체도 기업들 요청에 따라 양형 상향 의견서를 대법원 양형위에 제출했다. 업계의 한 관계자는 “이번 정부 개정안으로 해외유출 범죄구성요건이 강화함으로써 유죄 판결 가능성을 높인 것은 실효성이 있는 조치”며 “다만 법정형 대비 낮은 양형기준과 악용 소지가 크고 불합리한 형의 감경요소 등도 개선돼야 할 것”이라고 했다.

다만 또 다른 업계 관계자는 “국가핵심기술 및 산업기술 관련 외국 학계 및 기관 등 공동 연구 가능성도 있는 만큼 기술 소개, 알선 등을 기술 유출로만 해석하는 것에 부작용이 따를 것”이라고 했다.