바스프 "韓 반도체 시장 급성장…매력적인 투자처"

보리스 예니쉐스 바스프 아태지역 전자소재 사업본부 사장이 27일 대한상공회의소에서 열린 ‘바스프 전자소재 생산공장 완공 기자간담회’에서 회사 소개를 맡았다. (사진=한국바스프)

[이데일리 성세희 기자] 독일 화학기업 바스프(BASF)가 반도체 제조공정에 쓰이는 고순도 화학제품을 양산하는 공장을 건립했다.

바스프는 27일 ‘바스프 전자소재 생산공장 완공 기자간담회’를 열고 전남 여수에서 전자소재 생산 공장 가동을 시작했다고 밝혔다.

이 공장은 앞으로 최첨단 반도체와 디스플레이 제조 공정에 쓰이는 초고순도 암모니아수(NH4OH)를 양산한다. 현재 차세대 반도체 공정에 활용되는 세정과 에칭용 혼합물 등 최고 품질 전자소재를 양산하기 위해 설비를 늘리는 중이다.

이날 보리스 예니쉐스(Boris Jenniches) 바스프 아·태 지역 사장은 “빅 데이터와 사물인터넷(IoT), 인공지능(AI)이 발전하면서 올해 반도체 시장 성장률은 15% 이상 기록했다”라며 “한국 (반도체 기업) 설비 투자가 급증하는 등 한국 반도체 시장이 높은 성장세를 보이고 있다”라고 말했다.

아울러 “4년 전 한국에 아시아·태평양 지역 전자소재 사업본부를 설립하고 연구개발(R&D)센터를 세운 데에는 그만한 이유가 있다”라며 “한국 시장이 그만큼 매력적이기 때문에 (화학) 제품 혁신부터 양산까지 완전 단일 생태계를 구축했다”라고 덧붙였다.

바스프가 생산할 초고순도 암모니아수 등은 10 나노미터(㎚) 이하 최첨단 D램 반도체에 쓰인다. 예니쉐스 사장은 10㎚ 반도체를 사람 머리카락 한 올(약 200㎛)에 빗대어 설명했다. 그는 “이 커다란 회의실을 머리카락 한 올로 본다면 10㎚는 회의실 안에 있는 1밀리미터(㎜) 실 굵기 정도 된다”라며 “세계 반도체 설계 규격이 소형화될수록 제조 공정을 뒷받침하는 첨단 화학소재가 필요하다”라고 말했다.

그러면서 “(삼성전자와 SK하이닉스 등) 우리 고객사가 10㎚보다 더 작은 7㎚와 5㎚ 미세공정에 도전하는 중”이라며 “완전한 반도체 제품을 만들려면 미세공정 단계마다 반도체 부품을 세척해야 하는데 이때 초고순도 암모니아수가 중요하다”라고 설명했다.

바스프는 지난 4년간 반도체 시장이 커지면서 한국에 약 5000만달러(약 544억원)를 투자했다. 특히 바스프는 업계 최고 수준의 오염입자(파티클) 수치 탐지 능력을 보유했다. 전 세계 바스프 R&D 센터 분석 전담 인력은 2000명 수준이다.

예니쉐스 사장은 “앞으로 5년간 (반도체 고객사에) 도금과 세척 소재 등 새로운 제품을 제공할 예정”이라며 “다양한 소재를 활용해 반도체 내부 나노미터 전선을 (고객사에) 공급하거나 나노미터 전선 도금 서비스 등을 제공하겠다”라고 말했다.

또한 “한국 R&D 센터가 반도체 세척에 쓰이는 암모니아수 외에도 디스플레이 코팅 제품과 디스플레이 터치에 쓰이는 제품을 개발 중”이라며 “미국과 대만 고객사 등과 협력한 경험을 토대로 타사와 차별화되는 고품질 화학제품을 제공할 예정”이라고 덧붙였다.

신우성 한국바스프 대표는 “지난 60여 년간 한국에서 지속적으로 투자를 늘린 바스프가 이번에 여수 전자소재 생산공장을 설립해 국내 제조 경쟁력을 높였다”라며 “한국 최초로 (반도체 등) 전자 소재 (화학제품) 생산 시설을 가동하면서 바스프가 국내 첨단 산업과 같이 발전하겠다”라고 말했다.