초순수(Ultra Pure Water)는 수 백개의 반도체 생산 단위공정 중에 나오는 부산물, 오염물 등을 세정할 때 쓰이는 필수 공업용수로 초미세회로(nano meter, 10-9m)로 구성된 반도체를 세척해야 하기 때문에 총유기탄소량(TOC)의 농도가 ‘10억분의 1(ppb)’ 이하일 정도로 고순도를 유지해야 한다.
그간 우리나라에서는 반도체 사용 용수의 약 50%를 차지하는 초순수 공업용수의 생산·공급을 일본 등 해외업체에 의존했으며, 특히 공정설계, 초순수 배관, 수처리 약품 등을 일본에 의존하고 있어 수출규제 등 외부환경에 매우 취약한 상황이다.
한국수자원공사는 2025년까지 하루에 2400t의 초순수를 생산하는 실증플랜트를 실제 반도체 공급업체에 설치·운영할 계획이며, 초순수 생산 시설이 완료되면 반도체 설계·시공·운영 단계별로 쓰이는 초순수 공정의 최대 60%를 국산화할 것으로 기대된다.
현재 한국수자원공사는 실증플랜트 구축을 위해 수요처와 협의 중에 있으며, 구축 및 활용계획 등을 검토하여 실증플랜트를 설치할 대상지를 연내에 확정할 예정이다.
김동진 환경부 수자원정책관은 “고순도 공업용수는 비단 반도체 뿐만 아니라 제약·바이오·정밀화학 등 고부가가치 산업에서 수요가 점차 확대되고 있다”라며 “이번 기술개발 사업이 차질없이 이행될 경우 해외 기술 의존도 탈피와 더불어 국내 수처리 업계의 해외 시장 진출 기반을 마련하는 발판이 될 것”이라고 밝혔다.