석경에이티, ‘중공 실리카 활용 기능성 원단’ 미국 특허 취득

[이데일리 김응태 기자] 나노 기술 전문기업 석경에이티(357550)는 ‘중공 실리카(hollow silica)를 활용한 기능성 원단 및 제조 방법’과 관련해 미국 특허권을 취득했다고 27일 밝혔다.

이번 특허는 한국과 일본에 이어 세 번째 획득이다. 미국 특허권 취득으로 2037년까지 독점적 시장 지배권을 확보했다는 게 회사 측 설명이다.

석경에이티가 자체 연구·개발한 중공 실리카 입자는 적은 양으로 효과적인 단열 성능을 가진 게 특징이다. 투습, 방습 및 방수재로 활용 가능하며, 중공 입자의 낮은 열전도로 발생하는 냉감 및 단열 효과를 기능성 원단 소재에 적용할 수 있다.

석경에이티는 현재 여러 입자 크기의 중공 실리카를 개발해 여러 산업에 적용하는 데 주력하고 있다. 앞서 통신 부품 내에서 전송 손실을 막기 위한 5·6G용 저유전 소재, 저굴절 특성을 활용한 LR(Low Reflection) 소재 등에 활용한 바 있다.

임형섭 석경에이티 대표는 “중공 실리카 등 이미 확보한 나노 핵심 기술로 다양한 산업 및 생활에서 활용할 가능성을 열어두고 연구·개발에 투자를 아끼지 않고 있다”며 “기존 사업의 안정적인 실적 향상에 더해 현재 추진 중인 신사업을 정상 궤도에 올려 퀀텀점프를 달성하겠다”고 말했다.