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[이데일리 김진호 기자]강경선 서울대 교수 연구진은 나노 산화 그래핀을 이용한 스캐폴드 가교 기술을 개발해 인공장기 이식 후 염증 발생 문제를 해결하는 데 성공한 연구 결과를 국제학술지 ‘네이처 커뮤니케이션스’를 통해 발표했다고 21일 밝혔다.
이번 연구를 주도한 강 교수는 지난 2010년 강스템바이오텍(217730)을 창업한 줄기세포 분야 세계적 연구자다. 그는 최근 장기 부족 현상에 주목해 정교하고 미세한 인체 장기 구조를 구현하려는 시도를 이어왔으며, 장기에서 세포를 모두 제거한 탈세포 스캐폴드에 사람의 세포를 주입하는 재세포화 기술에 주목했다. 스캐폴드란 3차원(3D) 세포배양 구조체를 말한다.
연구진은 산소와 반응시킨 산화 그래핀을 펩타이드 결합을 통해 탈세포 스캐폴드에 가교결합시켰다. 그 결과 탈세포 스캐폴드의 기계화학적 물성을 강화됐으며, 나노 산화 그래핀이 생체 내 효소의 활성을 저해하고 항염 효과를 발휘해 해당 물질이 60일 이상 분해되지 않고 유지되는 것을 확인했다.
한편 이번 연구는 범부처재생의료기술개발사업단이 추진하는 재생의료 원천기술 개발 사업 및 과학기술정보통신부와 한국연구재단이 추진하는 세종과학펠로우십 등의 지원으로 진행됐다.