엘피다, 25나노 D램 개발…"혹시 쇼 아냐?"

[이데일리 조태현 기자] D램 미세공정 경쟁에서 일본 엘피다가 국내 업체에 앞서 가나.

엘피다가 25나노 D램 개발에 성공했다는 소식을 내놨다. 이 소식이 사실이라면 엘피다가 20나노급 D램 공정개발에서 삼성전자(005930), 하이닉스반도체 등 국내 업체에 한발 앞서게 되는 것이다.

이에 따라 국내 반도체 업계가 상황 파악에 분주해졌다. 그러나 기존 엘피다의 행보를 고려하면 이번 20나노급 D램 공정개발도 `쇼`에 그칠 가능성이 큰 것으로 업계에서는 보고 있다.

◇ 엘피다 "7월부터 25나노 D램 양산" 2일 외신에 따르면 엘피다는 회로폭을 25나노미터로 줄인 D램을 성공적으로 개발해 오는 7월부터 양산에 돌입할 계획이라고 밝혔다.

미세공정을 적용하면 기존 공정에 비해 같은 크기의 반도체 웨이퍼에서 생산되는 반도체 칩의 수량이 늘어난다. 그만큼 원가를 절감할 수 있다.

업계에서는 한 세대의 미세공정 개선이 이뤄지면 생산성이 60~70% 정도 개선되는 것으로 보고 있다.

현재 국내 업체는 40나노급 공정을 주력 공정으로 D램을 생산하고 있다. 연말까지는 30나노급 생산 비중을 크게 높을 계획이다.

발표 내용만을 봤을 때는 엘피다가 D램 미세공정 경쟁에서 크게 앞서나가는 상황. 삼성전자와 하이닉스반도체(000660)는 여전히 20나노급 공정을 개발중이다.

◇ "엘피다 발표 믿기 어려워…실적으로 입증해야" 하지만 업계에서는 엘피다의 과거 행보를 봤을 때 25나노 양산이 실제로 의미 있는 수준으로 이뤄질 가능성은 거의 없는 것으로 보고 있다.

엘피다는 지난 2009년 말 40나노급 공정을 적용한 D램 양산에 돌입한다고 밝힌 바 있다. 하지만 시장에서는 엘피다의 40나노급 D램 제품을 거의 찾아볼 수 없었다는 것이 업계의 공통된 지적이다.

사실상 40나노급 공정을 통해 D램 양산의 규모가 의미 있는 수준이 아니었다는 것이 업계의 시각이다. 행동보다 `말`이 앞섰다는 것.

미세공정에서 엘피다가 뒤지고 있다는 것은 1분기 실적을 봐도 어느 정도 유추할 수 있는 부분이다. 엘피다는 최근 4분기(2011년 1월~3월) 실적 잠정치 발표를 통해 매출액 918억엔(한화 약 1조원), 영업손실 60억엔(약 700억원)을 기록했다고 밝혔다.

영업이익률은 -7%. 지난 1분기가 D램 가격 약세가 지속된 기간이라는 점을 고려해도 거의 같은 미세공정 수준으로 제품을 양산하고 있는 국내 업체와 실적 차이가 큰 편이다.

삼성전자의 지난 1분기 영업이익률은 17.9%였으며, 하이닉스는 12%를 기록했다. 다소 제품 라인업의 차이는 있지만 삼성전자와 하이닉스가 엘피다보다 우수한 실적을 달성한 것.

업계 관계자는 "엘피다가 시장에 발표한 것과 같이 미세공정 전환을 진행했다면 실적이 발표한 것보다 훨씬 좋았을 것"이라며 "20나노급 공정에서도 같은 상황이 벌어질 가능성이 크다"고 말했다.

엘피다가 지금까지 언론을 통해 회사의 사정을 실제보다 부풀려왔다는 의혹도 나온다. 이번 25나노 D램 개발 역시 같은 맥락일 가능성이 크다는 설명이다.

또 다른 업계 관계자는 "최근 엘피다가 D램 고정거래가격을 인상하겠다고 발표만 하는 등 시장의 신뢰를 잃고 있는 모습"이라며 "결국 발표가 아닌 실적 개선으로 입증해야 한다"고 지적했다.

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