초고전압 전력반도체 공정은 가전, 자동차, 통신, 산업 등 폭넓은 분야에서 모터를 구동하는 게이트 드라이버(Gate Driver) IC의 설계·제조를 지원한다. 전력반도체 IC 시장의 8%를 차지하고 있으며 지난해부터 2027년까지 연평균 109% 성장할 것으로 전망된다.
이번 공정 기술 업그레이드로 DB하이텍은 게이트 드라이버 IC에서 레벨 시프터(Level-Shifter) 절연방식과 갈바닉(Galvanic) 절연방식을 동시에 사용할 수 있는 환경을 제공한다. 이를 통해 고객들은 칩 설계가 용이한 레벨 시프터와 고전압 동작에서 안정성이 높은 갈바닉 절연 각각의 장점을 살릴 수 있으며 공정 활용 역시 기존 가전 분야에서 자동차, 태양광 분야로 확장될 전망이다.
아울러 향후 실리콘 전력반도체에서 구현할 수 있는 전영역대의 공정 기술을 확보하면서 응용분야별로 최적화된 게이트 드라이버 IC 설계 환경을 제공할 계획이다.
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