특허청, 8월 1일 '2022년 한·중·일 디자인포럼' 온라인 개최

3국 디자인 동시 출원시 숙지해야할 제도·심사 실무 공유
  • 등록 2022-07-28 오전 9:36:36

    수정 2022-07-28 오전 9:36:36



[대전=이데일리 박진환 기자] 특허청은 내달 1일 2022년 한·중·일 디자인포럼을 비대면 온라인으로 개최한다고 28일 밝혔다. 올해로 11회째를 맞이하는 이번 포럼은 국제경제 확장 및 웹 3.0시대에서의 디자인 보호를 주제로 열린다. 포럼에서는 헤이그 협정으로 중국이 국제디자인출원제도에 합류함에 따라 한국과 중국, 일본 등 3국에 디자인 동시 출원 시 알아둬야 할 각국 디자인 제도와 심사 실무를 공유한다. 또 한·중·일 산업계 연사를 초청해 메타버스나 NFT 등 신기술과 디자인, 웹 3.0시대에 대응하는 업계 동향 등을 다룰 예정이다. 온라인 포럼은 사전신청을 통해 누구나 참석 가능하며, 한국·중국·일본어가 동시통역으로 제공된다. 목성호 특허청 상표디자인심사국장은 “이번 포럼은 중국·일본의 디자인 관련 법·제도 및 산업계 동향을 파악할 수 있는 좋은 기회가 될 것”이라며 많은 관심과 참여를 당부했다.

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