사드 봉합되자 한·중 지적재산권 협력 강화한다

성윤모 특허청장(사진 왼쪽)과 션창위 중국 국가지식산권국장(사진 오른쪽)이 양국에 출원된 동일한 발명을 한·중 심사관이 함께 심사하는 ‘특허 공동심사(CSP) 사업’에 관한 양해각서(MOU)를 체결한 뒤 기념촬영을 하고 있다. 사진=특허청 제공

[대전=이데일리 박진환 기자] 한국과 중국이 특허와 디자인 분야 등에서 양국간 협력 수준을 강화하기로 했다.

특허청은 성윤모 특허청장이 17일(현지시각) 중국 항저우에서 션창위(申長雨) 중국 국가지식산권국장과 청장급 회담을 열고, 특허·디자인 분야의 협력 수준을 높이기로 합의했다고 19일 밝혔다.

이번 회담에서는 양국에 출원된 동일한 발명을 한·중 심사관이 공동으로 심사하는 ‘특허 공동심사(CSP) 사업’에 관한 양해각서(MOU)가 체결됐다.

특허 공동심사는 두 나라에 동일한 발명이 특허 출원된 경우 양국이 선행기술 정보를 공유하고, 우선심사를 통해 다른 출원 건보다 빠르게 심사해 주는 프로그램을 말한다.

이는 중국이 최초로 CSP 사업에 참여하기 위해 한국과 손을 잡았다는 데 큰 의미가 있다.

특히 이번 양해각서는 사드 사태 이후 올해 양국 부처간 처음으로 체결된 것이다.

또한 양국 특허청은 디자인 우선권 서류의 전자적 교환을 조속히 추진하는 방안에도 합의했다.

기존에 국가간 디자인 우선권 서류를 전자적으로 교환하는 사례는 없었으며, 이번 합의로 서류제출에 따른 비용과 부담이 크게 절감될 전망이다.

이날 성윤모 특허청장은 “중국이 세계 최대 시장이자, 지재권 최다 출원 국가라는 점에 비추어 볼 때 이번 회담에서 합의된 양국 간 지재권 획득 절차 간소화 조치 등은 중국 진출 우리 국민과 기업에 적지 않은 편익을 가져다 줄 것”이라며 “지재권 국제무대에서 입지를 강화하고 있는 한국과 중국의 협력 증진은 지재권 분야의 국제 논의와 규범 형성을 선도해 나가는 데 있어 양국 모두에게 큰 보탬이 될 것”이라고 내다봤다.