'KEIT 지원' 재료연구소, 대면적 표면처리기술 개발 성공

[이데일리 김일중 기자] 한국산업기술평가관리원(KEIT)은 5일 ‘1.5m급 대형 표면처리용 선형 이온빔 인출장치 기술 개발’ 과제를 통해 정부출연금 약 39억 9000만원을 지원한 한국기계연구원 부설 재료연구소에서 선형 이온빔 발생 장치를 토한 대면적 표면처리 기술 개발에 성공했다고 밝혔다.

대면적 표면처리 기술은 디스플레이, 태양전지 등 첨단 산업뿐만 아니라 식품용 포장재 코팅, 기능성 의류 표면처리까지 실생활에 필요한 다양한 분야에 적용되고 있다.

최근에는 세계적으로 표면처리 산업에서 1m 이상의 선형 이온빔 인출장치의 수요가 증가하고 있으며, 연구소는 해외 선진 기업 제품을 모방한 것이 아닌 자체 기술을 통해 기존 대비 2.3배 이상의 성능을 가진 1.5m급 표면 처리용 이온빔 인출장치를 개발해 그 의미가 크다.

한편 재료연구소는 이번 기술개발을 통해 10월 ‘이달의 산업기술상’ 신기술 기술 부문에서 산업통상자원부 장관상을 수상했으며, 이달의 산업기술상과 관련된 자세한 내용은 월간 R&D 정보지 ‘이달의 신기술’ 11월호에서 자세히 확인할 수 있다.