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CMP 패드는 반도체 웨이퍼 표면을 화학·물리적으로 연마해 평평하게 만들 때 필요한 부품이다. 반도체 웨이퍼 위에 연마 소재인 CMP 슬러리를 주입한 뒤 패드를 회전하면서 웨이퍼를 평탄화한다. 폴리우레탄 소재인 CMP 패드는 보통 사용한 뒤 소각하는 소모품이었다.
특히 협력사와 공동으로 기술을 개발했다는 점에서 반도체 소재·부품·장비(소부장) 생태계에 기여했다는 평도 나온다. 에프엔에스테크는 삼성전자 요구에 따라 생산한 CMP 패드를 올해 초부터 실제 반도체 제조라인에 적용했다. 현재까지 공급량은 적지만 CMP 패드를 재사용하는 것은 업계 최초다.
이번에 개발한 재사용 CMP 패드는 신제품과 비교해 100% 가까운 성능을 보인 것으로 알려졌다. CMP 패드는 웨이퍼와 맞닿는 패드와 접착재, 서브 패드 등 총 4장으로 구성된다. 삼성전자와 에프엔에스테크는 기존에 사용한 CMP 패드 4장을 분리, 마모된 부분을 충전하고 일정한 두께로 재경화하는 방식으로 재사용 CMP 패드를 만들었다. 삼성전자와 에프엔에스테크는 재사용 CMP 패드 관련 공동 특허도 출원했다.
삼성전자와 에프엔에스테크는 반도체 제조공정에서 재사용 CMP 패드 성능 평가를 지속하며 도입량을 늘려 갈 계획이다. 삼성전자 관계자는 “CMP 패드 재사용으로 공정 과정에서 발생하는 폐기물을 줄이고 관련 비용 또한 절감할 것으로 기대한다”고 밝혔다.