[이데일리 안승찬 기자] 중국 반도체공장 건설 지역을 결정하기 위해 3~4곳과 물밑 협상을 벌이던 삼성전자가 결국 시안(西安)시를 택했다. 시안시는 황하 유역의 관중평원(關中平原) 중부에 위치해 있다.
21일
삼성전자(005930)는 중국 차세대 낸드플래시 생산라인 건설을 위해 중국 산시(陝西)성의 시안시와 양해각서(MOU) 체결을 위한 실무 협상을 시작한다고 밝혔다.
삼성전자는 지난해 12월 반도체 중국 진출을 결정, 지식경제부로부터 지난 1월 승인을 받았다. 삼성전자의 해외 반도체 공장 진출은 지난 1996년 미국 오스틴공장 이후 두번째다.
삼성전자는 시안시와 실무 협상을 원만하게 마무리하고 중국 정부의 승인 절차를 완료하면, 연내 생산라인 건설에 착수하고 내년 말부터 가동에 들어간다는 계획이다.
삼성전자 관계자는 "시안시는 반도체 라인 운영에 필요한 산업 용수와 전기 등 산업 인프라가 잘 갖추어져 있고, 다양한 IT 기업들의 연구 거점과 유수의 대학들이 있어 우수한 인재를 확보할 수 있다"고 말했다.
특히 시안시를 중심으로 한 중국 서부지역은 현재 글로벌 IT 기업들이 생산 거점으로 진출하고 있는 지역이다. 그만큼 고객이 많고, 대응이 빨라질 수 있다.
삼성전자 관계자는 "올해 국내에서 고성능 대용량 10나노급 낸드플래시를 양산하고, 내년부터는 중국에서도 10나노급 낸드 플래시 양산을 개시해 중국 시장을 선점할 것"이라고 말했다.
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