"D램 10나노급 전환으로 캐파 감소분 보완 투자, 평택 공장에선 D램 증설 안해"-삼성전자 컨...

[이데일리 양희동 기자] “D램에 경우에는 고성능·고용량·고부가 가치 제품을 위해 17라인 보완투자 결정했다. 이런 보완 투자는 캐파 증가가 아닌 10나노급 전환에 따른 캐파 감소분을 보완하는 것이다. 평택 공장은 현재 계획대로 양산 준비 중이며 2017년 중순 경에 가동을 할 수 있을 것으로 예상된다. 구체적인 확정된 것은 단계적으로 증설 계획을 검토해 나가겠다. 평택은 반도체 제품 시황을 고려해 증설할 예정이며 D램 증설은 고려하고 있지 않다.”-삼성전자(005930) 컨콜



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