28일 업계에 따르면 하이닉스는 올해 시설투자에 당초 계획보다 8000억원을 추가한 3조1000억원을 투자할 계획이다. 하이닉스는 당초 2조3000억원을 투자하기로 했었다.
그러나 최근 반도체 호황과 더불어 경쟁업체인 삼성전자가 반도체에 11조원을 투자하기로 하는 등 공격 투자에 나서는 점 등을 감안해 투자 규모를 늘려잡았다.
하이닉스는 올해 투자금액 3조1000억원 중에서 낸드플래시 부문에 약 40%를 투자할 계획이다.
하이닉스는 28일 오후 이사회를 열어 올해 투자 금액과 계획을 확정할 방침이다.
이에 대해 하이닉스 관계자는 "오늘 이사회 안건에 투자 확대 안건이 있는 것은 맞지만 (투자금액이) 아직 확정된 것은 아니다"고 말했다.
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