이에 따라 내년부터 3차원(3D) V낸드 생산 확대를 위한 추가 투자가 이뤄질 지 관심이다.
삼성전자 고위 관계자는 “시안에 공장을 지으면서 중국 정부와 약속했던 투자 금액 70억 달러는 거의 다 투입됐으며 올해 내로 완료될 것”이라고 22일 밝혔다.
삼성전자 시안 공장은 2013년 8월 착공해 지난해 5월부터 양산 체제에 돌입했다. 업계에서는 4~5년에 걸쳐 투자가 이뤄질 것으로 예상했으나 투자 완료 시점이 당초 전망보다 1년 이상 앞당겨진 셈이다. 최근 완공된 후공정 생산라인에 5억달러(5500억원)가 투자된 것을 포함하면 전체 투자액은 8조원을 훌쩍 넘는다.
시안 공장의 최대 캐파(생산능력)는 웨이퍼(반도체의 재료가 되는 얇은 실리콘 원판) 기준 10만장 수준이지만 현재 생산량은 5만장 미만으로 알려져 있다.
시안 공장에 투입된 70억달러 중 공장 건설 비용을 제외한 생산설비 설치 비용 등이 45억달러 정도였던 점을 감안하면 내년부터 공장 내 비어있는 공간에 설비를 추가하면서 수조원의 투자가 더 이뤄질 것으로 전망된다.
삼성전자가 시안 공장에 대한 추가 투자에 나선 것은 급증하고 있는 V낸드 수요에 대응하기 위해서다.
업계 관계자는 “전체 낸드플래시 시장에서 V낸드가 차지하는 비중은 올해 3.7%에서 3년 후인 2018년에는 50% 이상으로 확대될 것”이라며 “삼성전자가 유일하게 V낸드를 생산하고 있기 때문에 시안 공장에 대한 추가 투자를 통해 시장 장악력을 더욱 높일 수 있다”고 말했다.
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